Glyclean™ eGA

半导体加工应用

这种半导体级乙醇酸是一种环保的残留物清除剂和表面处理产品,专为要求金属杂质低的应用而设计。

Glyclean eGA 是一种具有吸引力的基础材料,在众多半导体制造领域的配方应用中有着很大的潜力,包括:

晶圆清洗和表面处理

  • 前道工序 (FEOL) 和后道工序 (BEOL) 清洁剂
  • 蚀刻残留物去除剂/清洁剂
  • 后光刻胶去除清洁剂
  • 化学机械平面化 (CMP) 泥浆配方
  • 后 CMP 清洁剂

特性和优势

低腐蚀速率、优异的金属离子螯合作用及高效的 pH 调剖,使 Glyclean™ eGA 成为半导体制造的最佳选择。这种酸具有低毒性和低挥发性,符合安全性和处理要求,易于使用。